
[ Photo 공정 Overview ] Photo공정이란 반도체 8대 공정에서도 어려운 공정 중에 하나입니다. 말 그대로 사진을 찍어 웨이퍼에 원하는 패턴을 형성하는 것이라고 생각하시면 이해하시기 쉽습니다. 왜냐하면 현재 반도체의 공정기술은 nm 수준으로 내려왔기 때문에, 금속을 정밀하게 깎아 패턴을 형성해야만 합니다. 과정은 아래와 같습니다. ( 붉은색 글씨로 된 부분이 Photo공정과정입니다 ) [ Photo Resist 용액 ] 반도체에 회로를 형성하기 위하여 금속에 패턴(Pattern)을 형성해야합니다. 이때, Mask와 빛을 이용하여 깎아낼 부분을 선택할 수 있습니다. 이러한 방법을 돕기위하여 Photo Resist용액을 이용합니다. 앞으로 줄여서 PR용액이라고 부르도록 하겠습니다. 즉, PR용..
전자공학/반도체공정
2020. 5. 7. 11:21
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