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지난 포스팅에서 인가된 전압에 따라 PN다이오드의 에너지 밴드 다이어그램을 알아보았습니다.

이번에는 소수캐리어 분포를 살펴보고, 전류식을 유도하는 과정에대해 물성적으로 이해해보겠습니다.

지난 포스팅을 요약해보면, 전류의 흐름을 발생시키는 것은 확산전류임을 알 수 있습니다.

[전자공학/반도체] - 10강. 순방향전압(Forward Bias)과 역방향전압(Reverse Bias)인가 특성

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평형상태에서 PN다이오드의 캐리어 분포를 나타낸 그래프입니다.

위 그래프에서 소수캐리어의 분포를 보면 일정하게 유지됨을 알 수 있습니다.

소수캐리어들의 일부는 열운동에 의해 공핍영역으로 들어가게 되어 반대편으로 드리프트 전류성분으로 이동합니다.

하지만 이때, 다수캐리어의 확산에 의해서 상쇄되어 일정량을 유지할 수 있고,

나머지 확산된 전자와 정공들은 EHP에 의해 또 상쇄되어 농도를 유지할 수 있습니다.

 

평형상태 뿐만아니라, Forward Bias와 Reverse Bias를 인가했을 때, 소수캐리어 분포를 살펴보겠습니다.

 

1. Forward Bias인가 시 소수캐리어 분포

순방향 전압(Forward Bias)를 인가하면 에너지 장벽이 낮아지고, 다수캐리어들이 공핍영역을 지나 확산됩니다.

먼저, P-type반도체에서 생각해보겠습니다.

P-type반도체의 다수캐리어인 정공은 순방향 전압인가로 인해,

낮아진 에너지장벽을 지나 다수의 정공들이 반대편 N-type반도체로 넘어갈 수 있습니다.

즉, P-type반도체에서 N-type반도체로 정공을 공급해주는 공급원이라고 볼 수 있겠습니다.

이로인해 N-type반도체에서 정공의 농도는 확산에 의해 넘어온 정공농도로 인해 xn에서 정공의 농도가 높습니다.

그리고 이동하면서 전자들과 재결합하여 농도가 줄어들고, pn으로 농도가 수렴하게 되는 것입니다.

 

이제 N-type 반도체에 대해 생각해보겠습니다.

마찬가지로 다수캐리어인 전자가 공핍영역을 지나, 반대편 P-type반도체로 넘어가게됩니다.

P-type반도체의 영역 -xp에서 살펴보면 다수캐리어인 전자가 넘어와 전자의 농도가 높아짐을 알 수 있습니다.

그리고 점점 확산이 진행되면서 정공과 재결합을 통해 농도가 np로 수렴하게 됩니다.

 

2. Reverse Bias인가 시 소수캐리어 분포

역방향 전압을 인가하게 되면, 에너지 장벽이 커지고 확산할 수 있는 캐리어들이 줄어들게 됩니다.

먼저 P-type 반도체에서 살펴보겠습니다.

P-type반도체의 소수캐리어인 전자는 열운동에 의해 확률적으로 공핍영역으로 넘어가는 전자들이 일부 발생합니다.

이 전자들은 공핍영역에 형성된 강한 Electric Field에 의해 반대편 N-type반도체로 넘어가게됩니다.

하지만 반대편 N-type반도체에서 높은 에너지장벽으로 인해 전자들이 확산되지 못하고, -xp에서 전자농도는 낮아지게 됩니다.

이번에는 N-type 반도체에서 생각해보겠습니다.

N-type반도체 소수캐리어인 정공 역시 열운동에 의해 임의로 공핍영역으로 넘어갈 수 있습니다.

강한 Electric Field에 의해 반대방향으로 넘어가지만, 정공들의 확산은 높아진 에너지장벽때문에 넘어올 수 없습니다.

이렇게 균형이 깨지게 되고, 결국 xn에서의 정공 농도는 낮아지게 되는 것입니다.

 

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